昆山立特纳米电子科技有限公司

　　昆山立特纳米电子科技有限公司是由在国外从事纳米涂层材料研究十年之久的留学生组成的团队，结合全德国、日本进口设备基础，开创全国较先进的**创新纳米涂层工艺。 目前的纳米类金刚石涂层采用传统单一的物理气相沉积（PVD）法(磁控溅射, 离子镀)或化学气相沉积（CVD）法(辉光放电等离子体, 电子回旋)制备的DLC膜内应力比较高, 薄膜与基体的结合力比较弱, 导致薄膜容易剥落, 分离, 剥层断裂, 或者由于高温沉积导致基材组织结构改变, 以及较低的膜生长速度等限制了DLC膜的工业化应用。昆山立特纳米电子科技有限公司在引进德国先进装备基础上，开发了具有自主知识产权的混合物理化学气相沉积(PCVD)法的沉积技术, 结合了PVD与CVD的优点, 涂层结构致密，表面光洁，厚度均匀，内应力减小(≤0.5-1GPa),涂层生长速度增加(0.5-1m/h),同时保持了低摩擦，高硬度，耐磨损性能,避免因磨损而造成的表面失效。提供全系列PVD，CVD涂层服务，主要有类金刚石涂层（DLC），氮化钛涂层（TIN），氮化铬涂层（CRN），氮铝化钛涂层（AITIN），氮碳化钛涂层（TICN），纳米复合涂层。 AlTiN具有优越的高温硬度、...

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